EUV

ASML、EUV装置の値上げ方針にTSMCが反発

半導体

ASML、EUV装置の値上げ方針にTSMCが反発

ASMLがEUV装置の値上げに動き、最大顧客TSMCが反発している。受注は2027年末まで売り切れ。装置の価格交渉が始まった。 生産性だけでなく「価値」に値段をつける ASMLのロジャー・ダッセン（Roger Dassen）CFOは7月15日の2026年第2四半期決算説明会で、Low-NA EUV装置の価格引き上げに言及した。 ASMLはこれまで、装置のスループット（1時間あたりの処理ウェハー枚数）が上がれば販売価格も上げるという方針を採ってきた。value-based pricing（価値に基づく価格設定）と呼ばれる考え方だ。ダッセン氏がこの場で示したのは、その枠を広げる方針だった。 スループットの向上だけでなく、イメージング精度やオーバーレイ性能の改善にも対価を求める。装置が顧客にもたらす価値を丸ごと価格に載せるという方向転換になる。 ダッセン氏は「リードタイムが長いため、価格への反映はすぐには起こらない」とも述べた。ASMLのEUV装置は2027年末まで売り切れ、2028年分も相当数が受注済みだ。今回の価格交渉が影響するのは、2028年後半以降に出荷される装置になる。
Intel、次世代EUV露光装置で量産出荷した業界初の企業に

半導体

Intel、次世代EUV露光装置で量産出荷した業界初の企業に

ASMLのHigh NA EUV露光装置が、研究開発の段階を超えた。 1台約4億ドルの装置が量産ラインに入った ASMLは現地時間7月15日、Intel FoundryがIntel 18Aプロセスの一部レイヤーにHigh NA EUV（高開口数EUV）リソグラフィを適用し、Core Ultra Series 3（Panther Lake）プロセッサの量産出荷を開始したと発表した。 High NA EUVで製造したロジック半導体を量産出荷するのは、業界で初めてとなる。 High NA EUVは、従来のEUVスキャナー（NXEシリーズ）の開口数0.33を0.55に引き上げた次世代リソグラフィ技術で、1回の露光でより微細なパターンを描ける。解像度は約67%向上し、複雑なマルチパターニング工程を削減できる可能性がある。 代わりに、コストは跳ね上がる。装置1台の価格は3億8000万～4億ドルと従来型の約2倍で、1回の露光コストも約2.5倍とされる。 従来EUV（NXE）vs High NA EUV（EXE） 従来EUV
中国にASMLのEUV装置があるとの疑惑を検証　確認できる証拠と反証

半導体

中国にASMLのEUV装置があるとの疑惑を検証　確認できる証拠と反証

米商務長官ハワード・ラトニック（Howard Lutnick）氏がASML幹部に、同社のEUVリソグラフィ装置が中国に渡った可能性があると伝えた。ASMLは全面否定し、米側は証拠を開示していない。地球上で唯一のEUV装置メーカーに突きつけられたこの「疑惑」の裏で、商務省自身がASMLの独占に風穴を開ける投資を進めている。 証拠を見せない告発 ラトニック商務長官が一連の会合でASML幹部に懸念を伝えたと、6月19日に報じられた。ASMLのEUVリソグラフィ装置が中国に存在する可能性があるという。EUVは第一次トランプ政権以来、対中輸出が禁じられてきた技術だ。もし事実なら、ここ数年かけて構築された半導体輸出規制体制で最大級の違反になる。 ただ、この「懸念」は奇妙な姿をしている。米政府高官は、ASMLがEUV関連の部品や輸送機材を中国に出荷した証拠があると主張しているが、その証拠をASMLにも報道機関にも見せていない。商務省は、実際にEUV装置が中国の土地の上にあるのかという問いにも答えなかった。 ASMLの反論は具体的だ。同社はワシントンで「ASMLのEUV装置が中国に存在する兆
ニコン、価格競争力を前面に新型露光装置　ASMLとの戦略差

半導体

ニコン、価格競争力を前面に新型露光装置　ASMLとの戦略差

かつて世界の露光装置市場を支配した日本メーカーが、「安さ」という武器で再び戦場に立とうとしている。ニコンの新社長・大村泰弘氏は日本経済新聞の取材に対し、ArF液浸露光装置をASMLより安価に提供して顧客を奪う方針を明言した。「自前で作る部分が多く、コスト競争では有利だ」。